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光子設備被廣泛應用于自然科學中，用于制造，操作和探測光。在未來，制造先進的光子設備將是一種挑戰(zhàn)，并需要靈活性和可調諧性。因為它們需要先進的三維光刻技術， 制造這些設備并非易事。激光直寫技術（DLW）是一種有趣的方式，它的目標是運用液態(tài)晶體光刻膠作為感光材料。

在這篇博客中， 我們將描述用于生產人造橡膠光學可調諧光子設備的光刻膠是如何進行特殊設計和測試的，以及如何用掃描電子顯微鏡(SEM)來幫助設計改進過程。

圖1： 激光直寫流程(DWL)： i） 光束聚焦，ii） 激光書寫，iii） 開發(fā)和iv） 完成結構 （A. Selimis et al, Microelectronic Engineering, 132 (2015), 83-89）。

圖2: 左邊的SEM顯微圖和線條放大的圖像，是通過不同的激光功率和書寫速度獲得的。

圖3: 使用不同的光功率和不同光刻膠（a – c）、 特定結構放大圖（d和e）的掃描電子顯微鏡的結構圖案，并放大圖像。標尺為10µm。

圖4:圓柱形結構的SEM圖像，用于研究光刻膠的光響應。標尺寸為 10µm。